

Shandong Zhongshan Photoelectric Materials Co., Ltd



Butiran syarikat

Shandong Zhongshan Photoelectric Materials Co., Ltd [Shandong,China] Jenis perniagaan:pengeluar Pasaran utama: Afrika , Americas pengeksport:21% - 30% CERT:ISO9001, CCC Penerangan:Ejen Pembersihan Semikonduktor,Agen pembersih wafer,Bahan semikonduktor fluorida karbonil,Gas khas kimia,,

Bahasa

Home > Produk-produk > Bahan kimia elektronik semikonduktor > Ejen pembersih semikonduktor/wafer

KATEGORI PRODUK

Ejen pembersih semikonduktor/wafer

 

CF2O fluorida karbonil untuk ejen bahan kimia etsa

Harga seunit: USD 500 / Gram

Min.Order	Harga seunit
100 Gram	USD 500 / Gram

Karbonyl Fluoride CAS: 353-50-4 CF2O Hight Purity untuk Etching Chemicals Ejen Pengenalan produk Berat molekul fluorida karbonil (cf 2 O) adalah 66.01 dan titik leburnya ialah -114 ℃, titik didih ialah -84 ℃. Fluorida karbonil adalah sejenis gas...

Hantar pertanyaan Klik untuk maklumat lanjut

China Ejen pembersih semikonduktor/wafer Pembekal

ZSEM menghasilkan pelbagai gas khas elektronik yang mengandungi fluorin tinggi dan pelarut organik untuk menjadikan pembuatan cip anda lebih mudah. Tugas pembersihan wafer adalah salah satu prosedur yang paling berulang kali dijalankan ketika membuat wafer. Dengan teknologi yang sentiasa berubah dan peranti mengecut, proses pembersihan menjadi rumit setiap kali. Pencemar wafer berkisar dari zarah dengan julat diameter 0.1 hingga 20 mikron, bahan pencemar organik dan bukan organik, dan kekotoran. Pembersihan wafer perlu dilakukan tanpa memperkenalkan sebarang kekotoran atau bahan cemar tambahan ke permukaan akhir.

Ejen pembersih semikonduktor/wafer
ZSEM menghasilkan pelbagai gas khas yang mengandungi fluorin yang tinggi dan pelarut organik untuk menjadikan pembuatan cip anda lebih mudah. Tugas pembersihan wafer adalah salah satu prosedur yang paling berulang kali dijalankan ketika membuat wafer. Dengan teknologi yang sentiasa berubah dan peranti mengecut, proses pembersihan menjadi rumit setiap kali. Pencemar wafer berkisar dari zarah dengan julat diameter 0.1 hingga 20 mikron, bahan pencemar organik dan bukan organik, dan kekotoran. Pembersihan wafer perlu dilakukan tanpa memperkenalkan sebarang kekotoran atau bahan cemar tambahan ke permukaan akhir.

Produk panas

produk baru